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「COSMETIC STAGE」 2016年10月号

 

■特集1■ 皮膚の深部に及ぼす、紫外線の影響とは?

   紫外線が原因で起こる皮膚トラブルと化粧品開発

『紫外線による肌の老化メカニズムと有効な化粧品素材の開発』   関西福祉科学大学

『紫外線によるシワ発生メカニズムと化粧品開発』   (株)ニコダームリサーチ

『紫外線による真皮の破壊のメカニズム』  日本医科大学

『紫外線によるDNAの損傷とがん化のメカニズム』   神戸大学

 

■特集2■ 他社製品の差をつける、製品開発のポイント!

   紫外線防止化粧品を高機能化する処方開発

『塗りムラを防ぐ、紫外線防止剤の処方開発』    近畿大学

『紫外線吸収素材開発における紫外線吸収のメカニズムと最新研究動向』     近畿大学

『紫外線防御力を付与する化粧品素材とその効果を高めるポイント』   ポーラ化成工業(株)

 
■その他のトピック記事

【シリーズ企画「開発者のための皮膚メカニズム」第1回】
『皮膚のタイトジャンクションとは』   旭川医科大学

【皮膚科学研究】
『皮膚科学研究の最新動向と、これからのスキンケア化粧品開発戦略』   (株)ポーラ

【皮膚常在菌】
『化粧品開発で知っておくべき皮膚常在菌のメカニズム』  山形大学

【ケラチノサイト】
『ケラチノサイトのヒスタミン産生メカニズムとかゆみの誘発について』  ホーユー(株)

 
■連載 
〜化粧品開発が知って得する、コロイド系分散微粒子ベシクル・リポソームのメカニズム〜
第1回ベシクル・リポソームの種類と作り方     姫路獨協大学

化粧品に使用される原料の相性の基礎知識