レジスト EUV セミナー
        
 
 

<セミナー No 711209>


★ レジスト構成材料の選択! 分子デザインと解像度、感度の関係!
★ アウトガスの評価とその制御技術!

EUVレジストの高感度化、
高解像度化とアウトガス制御

■ 講師

.関西大学 化学生命工学部  教授 博士(工学) 工藤 宏人 氏

2.リソテックジャパン(株) ナノサイエンス・グループ長 博士(工学) 関口 淳 氏

3.東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 博士(工学) 有光 晃二 氏

■ 開催要領
日 時

平成29年11月29日(水) 10:30〜16:00

会 場 [東京・五反田] 技術情報協会 セミナールーム
聴講料

1名につき 55,000円(消費税抜、昼食・資料付)
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき50
,000円〕

〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕

■ プログラム

【10:30-12:00】

1.EUVレジスト材料の超高感度、超高解像度に向けた分子設計

関西大学 化学生命工学部  教授 博士(工学) 工藤 宏人 氏
【専門】 有機化学、高分子化学
【活躍】一般社団法人ラドテック研究会 理事、大阪ニューサイエンス協会 参与

 

【習得できる知識】
EUVレジスト材料の今後の開発状況

【講座の趣旨】
極端紫外線(EUV)レジスト材料は、EUVフォトレジストシステムを実用化するためには必要不可欠な研究課題である。しかしながら、未だに分子設計指針を模索中である。その中で、高解像性レジスト材料を達成させるために試行錯誤してきた方法、および今後の可能性についてまとめた。


1.EUVレジストの課題
 1.1 化学増幅型レジストシステムを応用したEUVレジストシステム
 1.2 解像度、ラフネス、感度の関係

2.レジストの分子サイズとレジストパタンの関係

3.分子レジスト材料の例
 3.1 カリックスアレーンタイプ
 3.2 フェノール樹脂タイプ
 3.3 特殊骨格タイプ
 3.4 光酸発生剤(PAG)含有タイプ
 3.5 金属含有ナノパーテイクルを用いた高感度化レジスト材料の開発

4.主鎖分解型ハイパーブランチポリアセタール

【質疑応答】


【12:45-14:15】

2.EUVレジストのアウトガス制御と評価技術

リソテックジャパン(株) ナノサイエンス・グループ長 博士(工学) 関口 淳 氏

 

1.EUVLの概要

2.EUVL用のレジスト

3.アウトガス評価および制御

4.EUVレジストの評価

5.EUVL国際シンポジウムのトピックス

【質疑応答】


【14:30-16:00】

3.フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法

東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 博士(工学) 有光 晃二 氏
【専門】 光機能性高分子
【活躍】一般社団法人ラドテック研究会理事

 

【習得できる知識】
感光性樹脂に関する基礎知識、および高感度・高解像度化に関する方法論が習得できる。

【講座の趣旨】
光酸発生剤、光塩基発生剤の選択の仕方と利用法、ならびに高感度・ 高解像度化に関する方法論、分子デザインについて述べる。

1.背景 −酸・塩基触媒を使用した光反応性材料−

2.光酸発生剤
 2.1 光酸発生剤の構造と特性
 2.2 UV硬化への応用

3.酸増殖剤の特性と応用
 3.1 酸増殖剤の構造と特性
 3.2 UV硬化材料への応用
 3.3 EUVレジストへの応用

4.光塩基発生剤の特性と応用
 4.1 非イオン性光塩基発生剤の系
 4.2 イオン性光塩基発生剤系の系

5.塩基増殖剤の特性と応用
 5.1 塩基増殖剤の構造と特性
 5.2 光反応性材料への応用

6.まとめ

【質疑応答】

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