マイクロ LED セミナー
        
VR/AR技術の開発動向と最新応用事例
有機ELに関する発光効率向上,部材開発,新しい用途展開
 
<セミナー No.810407>

★開発動向と実用化への課題、モノリシック化へ向けた高密度実装技術を探る

マイクロLED

ディスプレイ応用展望とチップ集積化


■ 講師
1. (株)グローバルインフォメーション マーケティング部 アカウントマネージャー 沖本 真也 氏
2. 工学院大学 先進工学部 応用物理学科 准教授 博士(工学) 尾沼 猛儀 氏
3. 東京大学 生産技術研究所 教授 Ph.D. 藤岡 洋 氏
4. (有)アイパック 代表取締役 越部 茂 氏
■ 開催要領
日 時

平成30年10月15日(月) 10:00〜17:30

会 場 [東京・五反田]技術情報協会 セミナールーム
聴講料 1名につき60,000円(消費税抜き・昼食・資料付き) 
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき55,000円(税抜)〕
〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。
詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕
※定員になり次第、お申込みは締切となります。
■ プログラム

< 10:00〜11:30>

1.次世代ディスプレイの市場動向とマイクロLEDについて

(株)グローバルインフォメーション 沖本 真也 氏

 


【講演概要】
 有機EL(OLED)を超える究極のディスプレイとして注目を集める「マイクロLED」に関して、現状と予測される将来の市場動向について最新情報をお届けいたします。ソニーの『CLEDIS』などの大型ディスプレイでの採用や、サムスン社のマイクロLEDテレビを含め、「マイクロLED」および「ミニLED」市場について解説いたします。
 なお、当講演のプレゼン資料は台湾の調査会社TrendForce社の協力を得て作成いたします。TrendForceは2000年に創設され、台北市(台湾)に本社を構えているほか、中国本土にも5か所、現地事務所を設置しています。同社には200名以上の専門家が在籍し、グローバルにリサーチを展開しています。 同社LED市場調査部門であるLEDinsideが提供している年間契約型情報サービス「マイクロLED次世代ディスプレイ業界」は世界で30社以上の企業様にご購読頂いております。
 最新のマーケット動向を中心に有意義なプレゼンをご提供できるかと存じます。

【質疑応答・名刺交換】


<12:10〜13:40>

2.マイクロLEDチップの集積化技術の検討と技術課題

工学院大学 尾沼 猛儀 氏

 


【講演概要】
 本グループでは、窒化物半導体の結晶成長からデバイス製作までの研究を行ってきました。  
 本講演では、最近特に注目を集めるマイクロLEDディスプレイの可能性と実現する上での技術的 課題について述べ、これまで我々の研究室で低コスト化に主眼を置いて取り組んできた下記の検討結果についてご紹介します。

1.集積化GaN系マイクロUV発光ダイオードの製作

2.RIEエッチングによる集積化の検討

3.ディスクリートLEDチップの集積化の検討

4.駆動方法の検討

5.クロストーク低減の検討

【質疑応答・名刺交換】


<13:50〜15:20>

3.スパッタリングによる窒化ガリウム成長技術を用いた大面積フレキシブルマイクロLED作製、その可能性

東京大学 藤岡 洋 氏

 

【講座概要】
μLEDの低コスト化を目指して、量産性の高いスパッタリング法を用いて安価なガラス基板や金属フォイル上に三原色のInGaNのLEDを実現している。

1.スパッタリング法を用いた窒化物半導体の結晶成長とその材料物性
 1.1 スパッタリング法を用いた窒化物半導体の結晶成長法の特徴
 1.2 スパッタリング法を用いて作成した窒化物半導体の構造物性
 1.3 スパッタリング法を用いて作成した窒化物半導体の光学特性
 1.4 スパッタリング法を用いて作成した窒化物半導体の電気特性

2.スパッタリング法を用いた窒化物半導体デバイスの作製とその特性
 2.1 スパッタリング法を用いた窒化物半導体デバイスの作製
 2.2 スパッタリング法を用いて作成したショットキーダイオードの特性
 2.3 スパッタリング法を用いて作成したpnダイオードの特性
 2.4 スパッタリング法を用いて作成した発光ダイオードの特性
 2.5 スパッタリング法を用いて作成したMISFETの特性
 2.6 スパッタリング法を用いて作成したHEMTの特性

3.低コスト大面積基板上への窒化物半導体の結晶成長とそのデバイス応用
 3.1 金属フォイル上への窒化物半導体成長と3原色LEDの作製
 3.2 ガラス基板上への窒化物半導体成長と3原色LEDの作製
 3.3 ポリマーフィルム上への窒化物半導体成長とその素子応用

【質疑応答・名刺交換】


<15:30〜17:30>

4.封止技術の観点からみたマイクロLEDの課題と展望

(有)アイパック 越部 茂 氏

 

【講演概要】
 最近、マイクロLEDが次世代ディスプレイ用光源として注目されている。しかし、マイクロの定義および開発目標が異なっている。技術発表も民生用自発光型ディスプレイ(例; テレビ、スマートフォン)の開発、LEDの性能向上、次世代LEDの学究的研究等が入り混じっている。今回、マイクロLEDの開発状況、技術課題およびその対策に関して分かりやすく説明する。特に、民生用ディスプレイ光源の検討状況について詳しく説明する。 また、業界事情等についても解説する。

1.各種ディスプレイ
 1.1 LCD
 1.2 LED
 1.3 OLED
 1.4 PDP
 1.5 LCD VS OLED

2.マイクロLEDの概要
 2.1 定義
 2.2 ディスプレイの解像度

3.LED製法のマイクロ化課題
 3.1 製造方法
 3.2 微細加工
 3.3 ディスプレイ

4.マイクロLEDディスプレイの検討
 4.1 スモール化
 4.2 ミニ化
 4.3 マイクロ化

5.マイクロLEDディスプレイの特許
 5.1 ソニー
 5.2 X-セレプリント
 5.3 バイケル・インク
 5.4 その他

6.マイクロLEDディスプレイの検討
 6.1 マイクロLED
 6.2 封止技術;封止方法、封止材料

7.LEDの超微細化
 7.1 ナノLED
 7.2 QLED

8.単面発光型光源
 8.1 RCLED
 8.2 VCSEL
 8.3 LD

【質疑応答・名刺交換】


 

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