★多層光学薄膜、誘電体膜、光触媒膜、透明導電膜、超親水・撥水、耐指紋コーティング
　　 　　 　　 塗布液の調整、膜厚の制御、コーティング条件の最適化から評価・分析技術のノウハウまでを網羅！

発　刊　：　２０１４年８月２９日　　体　裁　：　A４判 ５６１頁　　　定　価：９９,０００円(税込）

◎精密塗布法による薄膜化技術
　・化学溶液法によるコーティングと大面積化、厚膜化技術！
　・超高精度塗工技術動向と薄膜化のノウハウ！
　・スピンコーテイング法による光学薄膜の成膜と評価法！
　・静電塗布法を用いたナノ構造体の形成技術！
　・微細塗布技術と塗布品位の改善！

◎塗工液最適化へのナノ粒子の表面技術と濡れ性、乾燥の評価
　・塗工液のレオロジーと塗布性 、レベリングとたれ
　・セラミックスラリー成膜性と動的粘弾性
　・ムラ・コーヒーステイン防止への制御技術
　・最適な塗工液を得るためのナノ粒子の表面技術ノウハウ！
　・塗膜におけるぬれ性評価技術〜接触角測定と表面張力測定！
　・セラミックス薄膜の乾燥技術！
　・塗布膜乾燥プロセスにおける膜厚制御のポイント　
　・電場ピックアップ法の開発と塗膜の乾燥評価

◎ゾル―ゲル法による薄膜化技術とコート膜の評価
　・ゾルーゲル法による製膜のポイントおよび評価！
　・ゾル−ゲル法を用いた機能性薄膜の作成
　・無機−有機ハイブリッド膜を用いた
　　　　　　　　　　　　　　　マイクロナノパターニングプロセス
　・ゾル−ゲル法によるプラスチックスへのセラミック薄膜の成膜技術
　・ゾル−ゲル法の基礎と強誘電体薄膜への応用
　・有機−無機ハイブリッド材料の調製と透明性、耐熱性の制御技術
　・ゾル-ゲル法による光学薄膜の作製と評価
　・ゾル-ゲル法によるフォトニックガラスの作製と応用展開

◎インクジェット法による薄膜化技術
　・プリンテッドエレクトロニクスへのインクジェット印刷技術の展開と薄膜化技術
　・インクジェット法によるフッ素系パターン化基板を用いた超微細薄膜作製技術
　・静電式インクジェットによるサブミクロン描画法
　・インクジェット液滴の着滴後の濡れや乾燥過程の解析

◎電解メッキ／無電解メッキによる薄膜形成技術
　・めっきプロセスによる金属?ナノ粒子複合薄膜の形成 ・粉体へのめっき技術とその均一化
　・チップ部品の電極部への選択的無電解めっき析出の検討
　・エレクトロニクス分野における微小めっき技術
　・医療用デバイスとめっきによる高機能化
　・エレクトロニクス分野におけるめっき薄膜の評価

◎ウェット薄膜の分析・評価技術
　・走査電子顕微鏡(SEM)による薄膜の表面形状観察
　・テラヘルツ波を用いた薄膜評価
　・光学多重反射測定に基づく高分子薄膜の膨潤挙動評価
　・ＱＣＭによるinsitu 膜厚測定と注意点
　・ライブ制御技術と信頼性・安全性の評価法
　・フーリエ変換赤外分光法(FT-IR) による薄膜の測定・分析法
　・塗膜性能の耐候性評価方法

◎ウェット薄膜の微細パターン形成技術と光学薄膜、耐指紋・超親水・撥水膜の成膜技術
　・導電性ペーストにおける粒子・樹脂・添加剤の調整
　・ITOナノインク用単分散粒子の液相合成と低抵抗化
　・ウェットコーティング法によるフレキシブルなカーボンナノチューブ透明導電フィルム
　・静電スプレー堆積法による太陽電池膜の伝導形の制御
　・スプレーコート法を用いた有機薄膜太陽電池の作製と性能評価
　・有機・無機ハイブリッド材料による薄膜形成と光学特性の制御
　・高屈折率・高誘電率透明ポリマーナノコンポジット薄膜の作製
　・蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計と作製
　・塗布法による反射防止膜の作製
　・含フッ素シランカップリング剤による超撥水・撥油加工
　・ シリカ系超親水・超撥水化剤によるコーティング加工と機能性について

第1節 精密塗布法による薄膜化技術
[１]化学溶液法によるコーティングと大面積化、厚膜化技術
　1. 化学溶液法とは
　2. 化学溶液法における塗布工程
　3. 化学溶液法における塗布後の乾燥・焼成工程
　4. 化学溶液法で作製したセラミックス薄膜の例

[2]超高精度塗工技術と薄膜化の動向
　1. テーブルコータRの特長･基本仕様　
　2. テーブルコータRの概要
　 (1) 装置の基本構成
　3. 装置の動作
　4. スロットダイの塗工方式分類と塗工理論
　 (1) コーティング理論と塗工条件の決定
　 (2) 塗工方式の分類比較
　5. テーブルコータR�U（ＦＬＯＬＩＡR）
　 (1) ＦＬＯＬＩＡRとは
　 (2) ＦＬＯＬＩＡRの特長．仕様
　6. FLOLIAR3000 COATER SYSTEM
　 (1) FLOLIAR3000 COATER SYSTEMとは
　 (2) FLOLIAR3000 COATER SYSTEMの特長
　7. 薄膜化の動向及び将来性

[3]グラビアコーターによる機能性フイルムの精密塗布と薄膜化技術

[4]SiO2ナノ微粒子のスピンコート技術
　1. スピンコートによるSiO2ナノ微粒子の配列方法
　2. 層数制御
　3. 粒径制御
　4. 厚膜化
　5. SiO2ナノ微粒子をマスクに用いたシリコンのエッチング
　6. 応用例　〜SiO2ナノ微粒子をマスクに用いたサブ波長反射防止構造の製作〜
　　6.1 反射防止の原理
　　6.2 製作
　　6.3 光学特性

[5]薄膜の光学特性の測定・評価
　1. スピンコーテイング法によって成膜した光学薄膜の主なる用途と成膜方法の特徴
　2.光学薄膜に要求される性能
　3.光学薄膜の評価方法
　　3.1 屈折率特性
　　3.2 透過率（損失）特性
　　3.3 膜質特性
　　3.4 応力特性
　　3.5 耐レーザー特性
　4. スピンコーテイング法によって成膜したポリマ薄膜およびその光学特性
　　4.1 シリコーン添加ポリシラン薄膜の特性
　　4.2 シリコーンにニトロン化合物を添加したポリマ薄膜の特性
　5. スピンコーテイング法による光学薄膜の技術課題

[6] 静電塗布法を用いたナノ構造体の形成技術
　1. 静電塗布法の原理
　2. 微細な構造を有する有機薄膜の形成
　3. ファイバー構造の形成

[7] 塗布光照射法による機能性酸化物薄膜の低温成長
　1.有機金属化合物を用いた塗布光照射法
　　1.1 エキシマレーザーによる多結晶薄膜の作製
　　1.2 エピタキシャル膜
　　1.3 ガラス基板上への配向膜の作製
　　1.4 エキシマランプによる結晶成長
　2. ナノ粒子光反応法
　　2.1 エキシマレーザーを用いたナノ粒子光反応法
　　2.2 エキシマランプを用いたナノ粒子光反応法

［8］微細塗布技術と塗布品位の改善
　1. 微細塗布技術
　2. 微細塗布装置の構造
　3. フラットパネル用カラーフィルタ修正への適用事例

［9］ 塗工液のレオロジーと塗布性について
　1. レベリングとたれ
　2. セラミックスラリー成膜性と動的粘弾性
　3. 法線応力効果と塗布性
　4. 昇温硬化過程の粘度挙動

[10］ムラ・コーヒーステイン防止に向けた液中微粒子の挙動解析と制御技術
　1. コーヒーステイン現象のDeeganらによる解析
　2. マランゴニ効果
　3. マランゴニ効果利用によるコーヒーステイン現象の抑制
　4. ピンニング抑制によるコーヒーステイン現象の抑制

[11] カーボンナノチューブの液中分散における留意点
　1. CNTの分散はなぜ難しいか
　　1.1 CNTの表面物性の問題
　　1.2 CNTの形状の問題
　2. 有効な分散剤吸着層とは
　3. CNT分散液の特異性
　　3.1 CNT分散液中の粒子径
　　3.2 CNT分散液の濾過性
　　3.3 CNT分散液の粘度

[12]最適な塗工液を得るためのナノ粒子の表面技術
　1.　シリカゾルの従来応用分野と一般的物性
　　1.1　ナノ粒子内発的機能
　　1.2　大きさに起因する特性と機能
　　1.3　形状に起因する特性と機能
　　1.4　バルクに起因する特性と機能
　2.　新規分野で必要とされるシリカゾルの役割
　　2.1　ナノ粒子の特性と応用
　　2.2　表面修飾ナノ粒子機能
　3.　必要とされる役割と表面処理の重要性と制御因子
　　3.1　表面処理の重要性と制御因子
　4.　具体的新規分野での応用例
　　4.1　ナノ粒子配列機能
　　4.2　ナノ粒子修飾機能
　5.　今後の開発方向

［13］塗膜におけるぬれ性評価技術 〜接触角測定と表面張力測定〜
　1. ぬれと接触角
　2. 表面張力
　　2.1 表面張力
　　2.2 固体の表面張力
　　2.3 界面張力
　3. 接触角と表面張力との関係
　4. ぬれの評価技術
　　4.1 接触角の評価方法
　　　4.1.1 静的接触角と動的接触角
　　　4.1.2 接触角算出の基本的な考え方
　　4.2 表面張力の評価方法
　　　4.2.1 静的表面張力と動的表面張力
　　　4.2.2 液体の表面張力測定法
　　　4.2.3 固体の表面張力（表面自由エネルギー）測定法

［14］ウェットプロセスによる薄膜形成法と微細パターン化技術
　1. 乾燥収縮機構
　2. セラミックス乾燥特性
　　2.1 熱風乾燥
　　2.2 乾燥特性に与える加熱方式の影響
　　2.3 マイクロ波乾燥による乾燥促進効果
　3. 縮重合反応を伴う樹脂薄膜の乾燥
　　3.1 塗膜の乾燥特性
　　3.2 塗膜の縮重合特性と発泡
　　3.3 塗膜内部応力生成機構

［15］塗布膜乾燥プロセスにおける膜厚制御のポイント
　1. 減圧乾燥時の塗布液膜の乾燥の物理
　2. 平坦な基板上に塗布された溶液膜の減圧乾燥プロセスのモデル
　3. 乾燥プロセス中の乾燥条件の制御

［16］電場ピックアップ法の開発と塗膜の乾燥評価
　1. 電場ピックアップ法
　 1.1 装置と原理
　 1.2 粘度測定
　 1.3 表面張力測定
　2. 高分子溶液の乾燥課程の評価

第2節 ゾル―ゲル法による薄膜化技術
［17］ゾルーゲル法による製膜のポイントおよび評価
　1. ゾルーゲル法の概略
　2. 薄膜コートゾルの調製法
　　2.2 複合ゾルの調整
　3. 製膜法
　4. コート膜の評価
　　 4.1 膜厚
　　 4.2 密着性
　　 4.3 硬度

［18］ゾル−ゲル法による薄膜化技術
　1.ゾル−ゲル法の基礎
　　1.1 ゾル−ゲル法の基本的な工程
　　1.2 ゾル−ゲル法の適用範囲
　　1.3 薄膜形成用塗布液の形成
　　1.4 ゾル−ゲル液を用いた成膜手法
　2．ゾル−ゲル法を用いた機能性薄膜の作成
　　2.1 光学薄膜の形成
　　2.2 誘電体膜の形成
　　2.3 光触媒膜の形成
　　2.4 透明導電膜の形成

［19］超低速ゾルーゲルディップコーティングの現状と課題
　1. ゾル−ゲルディップコーティングプロセスの概要
　　1.1 コーティング液の作製
　　1.2 ディップコーティング
　　1.3 ゲル膜の焼成
　2. 超低速ゾル−ゲルディップコーティングについて
　3. 超低速ゾル−ゲルディップコーティングの課題
　　3.1 亀裂発生の問題
　　3.2 凹凸形成の問題
　　3.3 再現性の問題
　4. 超低速ゾル−ゲルディップコーティングにおけるトピックス
　　4.1 自己組織化による薄膜表面のパターニング
　　4.2 金属塩水溶液をコーティング液とする
　　ゾル−ゲルディップコーティング

［20] 無機−有機ハイブリッド膜を用いたマイクロナノパターニングプロセス
　1. 無機−有機ハイブリッド膜
　2. 無機−有機ハイブリッド膜を用いたマイクロナノパターニングプロセス
　3. ホログラム記録材料への応用

[21] 水系ゾルを用いたゾルゲル法によるセラミックス薄膜の作製
　1. 水系ゾルの調製法
　　1.1 有機配位子を用いた水系ゾルの調製
　　1.2 層状チタン酸塩ナノ結晶のコロイド水溶液の調製
　　1.3 水系ゾルのコーティング薄膜
　2. 層状チタン酸塩コロイド水溶液を用いて作製したアナターゼの種々のナノ構造
　　2.1 アナターゼコロイド水溶液
　　2.2 星型アナターゼナノ結晶集合体
　　2.3 ナノスケールの凹凸構造をもつ薄膜
　　2.4 金属酸塩ナノシート
　3. 層状チタン酸塩コロイド水溶液の調製法の他の金属酸塩への応用

[22] ゾル−ゲル法によるプラスチックスへのセラミック薄膜の成膜技術
　1. プラスチックス表面にセラミック薄膜を作製するための既存技術
　2. ゾル−ゲル焼成膜をプラスチックス表面に転写する技術
　　2.1 工程の概略
　　2.2 接着剤を使用した転写
　　2.3 プラスチック基板表面の溶融による転写
　　2.4 セラミック膜のパターニング

[23]ゾル−ゲル法の基礎と強誘電体薄膜への応用
　1. 前駆体ゾルの分子設計
　　1.1 ケイ酸塩系
　　1.2 非ケイ酸塩系
　2. 強誘電体薄膜への応用
　　2.1 アルコキシドの分子設計による導電性酸化物薄膜のナノ構造制御
　　2.2 ハイブリッドインテグレーションによるSi基板上への高性能PZT薄膜の作成

[24]有機−無機ハイブリッド材料の調製と透明性、耐熱性の制御技術
　1. 有機−無機ハイブリッドの合成と構造制御
　　1.1 ゾル−ゲル反応によるシリカ系ハイブリッドの合成
　　1.2 層状剥離粘土を用いたクレイ系ハイブリッドの合成
　2. 有機−無機ハイブリッドの透明性と耐熱性の制御
　　2.1 透明性制御
　　2.2 耐熱性制御

[25]ゾル-ゲル法による光学薄膜の作製とその応用
　1. ゾル−ゲル法によるMgF2およびMgF2-SiO2膜の作製方法
　2. 低屈折率MgF2膜およびMgF2-SiO2膜の作製と評価
　　2.1 高温高圧処理によるMgF2ナノ粒子の変化
　　2.2 高温高圧処理による分散媒の変化
　　2.3 膜厚および屈折率の制御
　　2.4 反射防止性能の評価

[26]ゾル-ゲル法によるフォトニックガラスの作製と応用展開
　1. フォトクロミック薄膜
　2. エレクトロミック薄膜
　3. 平面光導波路への展開

第3節 インクジェット法による薄膜化技術
[27]プリンテッドエレクトロニクスへのインクジェット印刷技術の展開と薄膜化技術
　1. インクジェット方式別特徴
　　1.1 インクジェット方式の分類
　　1.2 プリントヘッドに要求される性能
　　1.3 ピエゾ各方式の特徴
　2. インクジェット方式の特徴と利点
　3. 今後の課題

[28] プリンテッドエレクトロニクスへのインクジェット印刷技術の展開と薄膜化技術

[29] インクジェット法によるフッ素系パターン化基板を用いた超微細薄膜作製技術
　1. パターン基板の作製
　2. 高分子薄膜の位置選択的製膜
　　2.1 インクの表面張力の効果
　3. 高分子薄膜の位置選択的製膜
　　3.1 インクの表面張力の効果
　4. 金属ナノインクによる超微細金属配線

[30] 水素ラジカルを用いた還元法によるインクジェット銅配線の実現
　1. HW法による水素ラジカルの生成
　2. 水素ラジカルによるインクジェット銅配線の形成

[31] 静電式インクジェットによるサブミクロン描画法
　1. 静電式インクジェットの装置構成
　2. 液滴の吐出挙動
　　2.1 電圧波形の影響
　　2.2 ニードル型ノズル
　　2.3 キャピラリー型ノズル
　3. ニードル型ノズルとキャピラリー型ノズルとの特性比較
　　3.1 テーラーコーンの形成時間および液滴の吐出時間の分布
　　3.2 印加電圧の周波数の影響
　　3.3 描画特性
　4. ニードル型インクジェットノズルによるサブミクロン描画

[32] インクジェット液滴の着滴後の濡れや乾燥過程の解析
　1. インクジェット成膜プロセス
　2. インクジェット着滴観察装置＆局所接触角計DropMeasure-1000
　　2.1 製品概要
　　2.2 特徴
　　2.3 用途　　　　　
　　2.4 観察例
　3. InkJetレンタルラボのご紹介
　
第4節 電解メッキ／無電解メッキによる薄膜形成技術
[33] めっきプロセスによる金属-ナノ粒子複合薄膜の形成
　1. めっき膜中へのナノサイズ粒子の複合化の考え方
　2. ナノ粒子のめっき膜中への取り込み機構
　3. めっきプロセスにより作製された金属-ナノ粒子複合薄膜の用途

[34] 粉体へのめっき技術とその均一化
　1. 粉体表面への無電解めっき
　2. 無電解めっきと放電焼結法を利用した難焼結材料の開発
　　2.1 使用粉末への無電解めっき処理の適用理由
　　2.2 難焼結性を示す粉末への無電解めっき
　　2.3 無電解NiめっきWC粉末の放電焼結特性
　　2.4 無電解NiめっきWC焼結体の特性評価
　　2.5 無電解NiめっきAl2O3粉末の放電焼結結

[35] 電気銅めっきにおける空孔発生とその制御
　1.結晶成長と空孔発生の例
　2.溝埋め込みにおける空孔発生
　3.ビアホール充填における空孔発生とその制御

[36]チップ部品の電極部への選択的無電解めっき析出の検討
　1.実験方法
　　1.1 本研究に用いたチップ部品とめっき膜
　　1.2 本研究に用いた基本的なプロセス
　2. 結果及び考察
　　2.1 触媒化条件の検討
　　2.2 その他のめっき条件の検討
　　2.3 Electron Probe Micro-Analyzer (EPMA)測定
　　2.4 X-rayPhotoelectron Spectrometry (XPS)測定
　　2.5 無電解Ｎｉ−Ｐめっき膜の高速化の検討
　　2.6 無電解Ｎｉ−Ｐめっき膜の
　　　　　　　テープ剥離試験結果と無電解銅めっき結果

[37]エレクトロニクス分野における微小めっき技術
　1. ULSI銅微細配線の変遷
　2. 銅めっきプロセス
　3. 銅めっき浴の添加剤
　4. TSV（Through Silicon Via）めっきの高速化と微細化対応

[38] ハイブリッド層を利用したポリマーフィルムの無電解めっき
　1. ポリマー表面での無電解めっきによる電子回路形成
　2. 光リソグラフィーによるハイブリッド薄膜のネガパターン形成とその無電解めっきによる金属マイクロパターンの形成
　3. 熱処理によるハイブリッド層の形成とその無電解銅めっき
　4. シリカナノ粒子によるめっき皮膜の密着性向上

[39]医療用デバイスとめっきによる高機能化
　1.磁気を利用した細胞チップ（ハイブリッド磁気チップ）
　　1.1 細胞チップ
　　1.2 磁気スポットの形成
　　1.3 マイクロウェルの形成
　2. 抗原特異的抗体産生細胞のスクリーニング
　3. ハイブリッド磁気チップでの細胞捕獲

[40]エレクトロニクス分野におけるめっき薄膜の評価
　　1.1 めっき膜形成方法および組成評価と拡散評価
　　1.2 めっき膜の内部応力
　　1.3 めっき膜の結晶構造評価

[1] 走査電子顕微鏡(SEM)による薄膜の表面形状観察
　1. 原理
　2. 装置

[2] 薄膜の透磁率の測定

[3] テラヘルツ波を用いた薄膜評価

[4]NMRによる液晶薄膜の評価法
　1. 理論的背景
　　1.1 DNMR分光法
　　1.2 液晶ダイレクタの静的・動的挙動
　2. 静的・動的DNMRスペクトルの測定例
　　2.1 測定方法　
　　2.2 静的なダイレクタ配向分布の測定例
　　2.3 動的なダイレクタ配向分布の測定例

[5]光学多重反射測定に基づく高分子薄膜の膨潤挙動評価
　1. 実験方法
　2. 結果および考察
　　2.1 膜厚測定
　　2.2 メタノールの収着速度論
　　2.3 メタノールの拡散係数
　　2.4 拡散係数の膜厚依存性

[6] ＱＣＭによるinsitu 膜厚測定と注意点
　1. 測定原理
　2. 解析
　3. 測定上の注意　

[7] フーリエ変換赤外分光法(FT-IR) による薄膜の測定・分析法
　1. 従来法
　2. MAIRS法
　3. MAIRS分析

[8] 塗膜性能の耐候性評価方法
　1. 塗膜の屋外暴露試験法
　　1.1 屋外暴露試験通則
　　1.2 屋外暴露試験方法　
　2. 塗膜の促進劣化試験方法
　　2.1 促進劣化試験
　　2.2 各種促進劣化試験方法
　3. 劣化解析技術
　4. 光触媒の耐候性評価

第1節 ≪電子回路形成・電子デバイス≫
[1] 導電性ペーストにおける粒子・樹脂・添加剤の調整
　1. 銀系導電性ペースト
　　1.1 ポリマー型導電ペースト
　　1.2 焼成型導電ペースト
　　1.3 ナノ粒子分散ペースト
　2. 銅系導電性ペースト
　　2.1 ポリマー型導電ペースト
　　2.2 焼成型ペースト用銅粒子
　　2.3 ナノ粒子分散ペースト

[2] 多色フォトクロミズムに向けた銀ナノ粒子材料
　1. フォトクロミズム
　2. 多色フォトクロミック材料
　3. 多色フォトクロミズムの機構
　4. 画像の保存
　5. 長波長光および単粒子への展開

[3] ITOナノインク用単分散粒子の液相合成と低抵抗化
　1. スパッタ法と塗布法
　2. ITOナノインク調製
　3. ITOナノ粒子合成プロセス設計
　4. ソルボサーマル法ITOナノ粒子合成

[4] 可溶性・高導電性ポリアニリンの合成と応用
　1. 可溶性・高導電性ポリアニリンの合成
　2. 可溶性・高導電性ポリアニリンの応用

[5] パッド印刷工法による導電パターン形成技術
　1. 現状の印刷工法
　2. パッド印刷の概要
　3. パッド材質改良
　4. 転写の仕組み
　5. 実例

[6] レーザープリンタを用いた導電性高分子のパターニングとデバイス化
　1. PEDOT/PSS
　2. ラインパターニング法
　3. フレキシブル有機トランジスタの作製

[7] ウェットコーティング法によるフレキシブルなカーボンナノチューブ透明導電フィルム
　1. 開発の背景
　2. 開発技術の概要
　　2.1 カーボンナノチューブインク作製および製膜法
　　2.2 熱処理
　　2.3 溶液処理
　　2.4 光焼成処理

[8] 化学的薄片剥離法によるグラフェン可溶化と薄膜塗布形成
　1. グラファイト単結晶の単層剥離，可溶化
　2. 酸化グラフェン塗布膜形成と還元
　3. グラフェン透明電極の塗布形成と有機薄膜太陽電池への応用

[9] スラリー分散プロセスと固体高分子形燃料電池触媒層
　1. 固体高分子形燃料電池製造におけるスラリー塗工プロセス
　2. 触媒層の作製プロセスと塗布乾燥技術
　3. スラリー調製プロセスにおける粒子凝集状態の変化
　4. 高分子吸着による粒子分散性の安定化
　5. 触媒粒子の再凝集と発電性能

[10] 高分子ソフトアクチュエータ―の作製技術
　1. 各種高分子ソフトアクチュエータ材料
　2. 各種EAPアクチュエータの特徴
　　2.1 強誘電体エラストマー
　　2.2 ポリマーゲル
　　2.3 イオン導電性高分子（IPMC）
　　2.4 導電性高分子
　　2.5 ハイドロゲル
　　2.6 カーボンナノチューブ（CNT）

第2節 ≪太陽電池≫
[11] 静電スプレー堆積法による太陽電池膜の作製
　1. 静電スプレー堆積法による結晶成長
　2. CuInS2の成長と伝導形の制御
　3. γ-In2Se3の成長
　4. In2S3の成長

[12] スプレーコート法を用いた有機薄膜太陽電池の作製と性能評価
　1. 有機太陽電池のホール輸送層の
　　高導電率化による電力変換効率の改善
　2. 太陽電池素子作製手順

[13] 水溶液電気化学製膜法による酸化物半導体膜の形成と太陽電池への展開
　1. 酸化物半導体形成のための電気化学
　2. 硝酸還元反応を用いた半導体ZnO膜の陰極析出
　3. 室温紫外発光ZnO層ならびにナノピラーアレィの電気化学ヘテロエピタキシャル成長
　4. 酸化亜鉛膜中への化学的不純物導入
　5. 酸化銅(Cu2O,CuO)膜の電気化学的形成
　6. 酸化物系薄膜太陽電池の電気化学的直接形成
　7. 酸化物半導体ナノ構造体の電気化学的形成と色素増感型太陽電池への展開

[14] 電解析出法による銅酸化物薄膜の作製と太陽電池への応用
　1. 薄膜作製方法
　2. 太陽電池特性及び微細構造評価

[15] In situ非破壊インピーダンス分光による有機薄膜太陽電池動作中の基礎物性評価
　1. 太陽電池におけるインピーダンス分光法
　2. 実験方法
　　2.1 素子の積層構造評価
　　2.2 素子作製
　　2.3 インピーダンス分光
　3. Zn(OEP)/C60ヘテロ接合型有機薄膜太陽電池
　　3.1 素子構造評価および等価回路モデル
　　3.2 開放電圧（VOC）の照射光波長依存性
　　3.3 インピーダンススペクトルおよび
　　　　　　　　　　内蔵電位（Vbi）の照射光波長依存性
　　3.4 開放電圧（VOC）と内蔵電位（Vbi）との相関性

第3節 ≪有機薄膜トランジスタ、有機ＥＬ≫
[16] ウエットプロセスによる薄膜作製法と有機デバイスの作製
　1. ウエットプロセスによる薄膜作製法の概要
　2. 有機デバイスへの適用
　　2.1 低分子複合ホストを用いたウエットプロセスによる燐光有機EL素子の高効率化
　　2.2 ウエットプロセスで作製した波長選択性を有する有機受光素子の効率改善

[17] 溶媒、真空を用いない有機高分子薄膜作製技術（摩擦転写法）
　1. 摩擦転写法
　2. 摩擦転写法を用いた電子デバイス作製
　　2.1 電界効果型トランジスタ
　　2.2 有機EL
　　2.3 偏光光電変換素
　　2.4 有機薄膜太陽電池

[18] 有機ELへの応用を目指したプリンティング用ハイブリッド材料の開発
　1. 高分子とシリカの有機／無機ハイブリッド
　2. シリカとのハイブリッド形成が可能なπ共役高分子の分子設計
　3. プリンティング技術による薄膜ハイブリッドの形成
　　3.1 PHPSをシリカ前駆体とする薄膜ハイブリッドの形成
　　3.2 耐候性向上技術としてのハイブリッド薄膜
　　3.3 積層化技術としてのハイブリッド薄膜
　4.　自己ドープ型電導性π共役高分子とシリカとのハイブリッド薄膜

[19] 光学的手法による有機薄膜デバイスの動作解析
　1. 測定方法
　2. 有機太陽電池のキャリア寿命評価
　3. 有機トランジスタのキャリア輸送評価

[20]有機ELにおける発光特性の光学解析と制御
　1. 有機 EL素子の基本構造と動作・発光過程
　　1.1 素子構造
　　1.2 動作・発光過程における光取り出し技術の重要性
　　1.3 双極子放射場のエネルギー散逸過程
　2. 有機 ELの光学解析
　　2.1 有機ELの光学現象と解析手法
　　2.2 光学モードの波数依存性
　　2.3 光取り出し効率の素子構造依存性
　3. 各種の光取り出し技術を利用した有機 EL の光学制御
　　3.1 高屈折率材料を利用した光取り出し制御
　　3.2 光散乱、光拡散効果を利用した光取り出し制御
　　3.3 微細周期構造による回折効果を利用した光取り出し制御

第4節 ≪光学材料≫
[21] 有機・無機ハイブリッド材料による薄膜形成と光学特性の制御
　1. 薄膜の形成とその応用例
　　1.1 反射防止用２層膜の形成
　　1.2 高屈折率膜の作製
　　1.3 セルパターンの出現
　　1.4 フォトリソグラフィーによる光導波路,微細パターンの作製
　2.異なる原料が与える薄膜諸特性への影響
　　2.1 エッチング特性の制御
　　2.2 撥水性ハイブリッド膜の形成と微小球作製への応用

[22] 高屈折率・高誘電率透明ポリマーナノコンポジット薄膜の作製
　1. BT/PMMAナノコンポジット膜
　　1.1　作製方法　1.2　PMMAナノコンポジット膜の特性
　2. BT/PIナノコンポジット膜
　　2.1 作製方法
　　2.2 ナノコンポジット膜の特性
　　2.3 改良法によるBT/PIナノコンポジット膜の作製と膜誘電率
[23] タッチパネル透明電極の低抵抗化と屈曲性への要求性能
　1. タッチパネルの動向と材料
　2. ITOフィルム
　　2.1 抵抗膜式ITOフィルム
　　2.2 静電容量式ITOフィルム
　3. ITO膜の低抵抗化とITO以外の透明導電フィルム
　4. ITO膜の屈曲性

第5節　≪反射防止膜≫
[24] 蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計と作製
　1. 蛍光体の薄膜化
　2. 蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計
　3. Y2O3:Bi3+,Eu3+/SiO2積層膜の作製と光学特性
　4. 擬モスアイ構造を有する傾斜型蛍光体薄膜

[25] 塗布法による反射防止膜の作製
　1. 反射防止処理の種類と反射防止の原理
　　1.1 AG処理
　　1.2 ARコート
　　1.3 AR＋AGコート
　2. 塗布法による反射防止膜の作製
　3. 反射スペクトルシミュレーションによる反射防止膜の設計

[26] 光通信用ポリマーマイクロレンズにおける反射防止膜の密着性向上技術
　1. 光通信用マイクロレンズ
　　1.1 概要
　　1.2 マイクロレンズの製法
　2. ポリマーマイクロレンズの課題
　3. 技術内容
　　3.1 無機ナノ粒子の粒子径
　　3.2 粒子の表面処理
　　3.3 ナノコンポジット樹脂の光学特性
　　3.4 マイクロレンズとしての耐湿性改善結果

第6節　≪超親水・撥水技術≫
[27]ナノ粒子を用いた透明超撥水剤の開発
　1. ナノ粒子の分散・塗布
　2. 水の接触角
　3. 表面凹凸状態の観察
　4.透明性の確保
　5. ナノ粒子による粉塵付着防止効果

[28]含フッ素官能基による高分子の撥水化技術
　1. 化学的な撥水化の極限
　2. 撥水化に及ぼすシークエンスの影響
　3. 撥水化に及ぼすフィルムの作製法の影響
　4. ポリマーブレンドと撥水性表面

[29]含フッ素シランカップリング剤による超撥水・撥油加工
　1. 1鎖型含フッ素シランカップリング剤による撥水性
　2. 含フッ素シランカップリング剤と超撥水
　3. 含フッ素シランカップリング剤と超撥油

[30]含フッ素ゲル化剤による超撥水表面の作製技術
　1. ゲル化剤による超撥水表面形成のコンセプト
　2. 含フッ素ゲル化剤の分子構造と組織構造
　　2.1 含フッ素ゲル化剤の分子構造
　　2.2 分子構造とゲル化能との関係
　　2.3 電子顕微鏡観察
　3.ゲル化剤を利用した超撥水表面の作製と評価
　　3.1 超撥水表面の作製方法
　　3.2 接触角とファイバー径との関係
　　3.3 ポリマーとの複合化

[30] シリカ系超親水・超撥水化剤によるコーティング加工とその機能性について
　1. 開発の経緯と製品特徴について
　2. 超親水化加工−アビオシリーズの開発
　3. 超撥水化加工−アデッソシリーズの開発

[31] 指紋を目立たせない防汚性，耐指紋性の評価技術
　1. 防汚性の評価について
　　1.1 防汚性について
　　1.2 防汚性の評価方法
　　1.3 防汚性評価の基準化について
　2. 耐指紋性の評価について
　　2.1 各種汚染物によるスポット試験
　　　2.1.1 汗成分
　　　2.1.2 皮脂成分
　　　2.1.3 酸，アルカリ性成分
　　　2.1.4 各種化粧品成分
　　　2.1.5 藻類，細菌，カビ成分
　　2.2 耐久性，耐候性試験での評価
　　2.3 実使用条件との汚れ具合の相関性，まとめ
　3. 付着防止のための機能性コーティング剤について
　　3.1 機能性膜成分の評価
　　3.2 機能性塗膜の評価
　　3.3 要求される機能の評価
　　3.4 耐指紋性評価の考え方について
　　3.5 汚れ防止機能の持続性の評価
　4. ナノシリカ系コーティングによる表面改質について
　5. 使用時想定での加速・促進試験とその試験装置について
　　5.1 屋外暴露による耐光性試験について
　　5.2 凍結−過熱サイクル試験による耐久性試験について
　　5.3 長寿命化に向けた取り組み方法について
　　5.4 色差計，反射計を用いた測色方法による劣化状態の数値化，標準化
　　5.5 気候，環境での再現性とズレの発生要因について
　　5.6 地域差事例 （沖縄の塩害，フロリダの耐光，カナダの耐寒）の考え方
　　5.7「あくまで目安」「顧客との 同一目線での開発リスク」での保証体制
　6.　実際の塗膜での防汚機能の劣化と保証に関するまとめ
　　6.1 長期性能維持のための保証について
　　6.2 顧客への保証期間の設定方法とその劣化する事実への説明方法
　　6.3 通常の使用条件，使用環境によるモデル事例での紹介について
　　6.4 実験室データと現場の長期耐候性との相関性について

[32] 酸化チタン表面の超親水−撥水可逆制御
　1. 撥水酸化チタンの設計
　2. 実験
　　2.1 酸化チタン薄膜の作製
　　2.2 酸化チタン表面の評価，水接触角変化
　3.　結果と考察
　　3.1 酸化チタン表面の評価
　　3.2 水の濡れ性変化と可逆性
　　3.3 疎水化挙動の考察
　　3.4 疎水化速度の高速化

[33] フィルム・プラスチックへの微細周期構造の形成と濡れ性の制御
　1. 微細周期構造のメカニズムとその形成方法
　　1.1 濡れ性の定性的理論
　　1.2 微細周期構造の形成方法
　2. 切削と射出成形による樹脂成形
　　2.1 切削
　　2.2 射出成形
　　2.3 撥水性の評価
　3. フェムト秒レーザーとホットエンボスによる樹脂フィルム成形
　　3.1 フェムト秒レーザーの表面波干渉
　　3.2 射出成形とその撥水性
　　3.3 ホットエンボスとその撥水性