第1章 SiCパワー半導体
第1節 SiC単結晶成長における結晶欠陥発生のメカニズムとその制御 (大谷 昇)
1.はじめに
2.昇華再結晶法によるSiCバルク単結晶成長
3.SiCバルク単結晶に存在する結晶欠陥
4.SiCバルク単結晶成長中の基底面転位の発生メカニズム
5.おわりに
第2節 酸化排除による高品質SiC MOS界面の形成 (小林 拓真,木本 恒暢)
1.SiC MOSFETの現状と課題
2.異なる結晶面およびアクセプタ密度を有するSiC MOSFETの移動度制限要因の理解
3.アルゴン熱処理による界面炭素欠陥の検出と低減
4.酸化排除による高品質SiC MOS界面の形成
5.まとめ
第3節 SiC電気特性の空間分解測定 (加藤 正史)
1.はじめに
2.キャリア再結合寿命測定技術
3.高空間分解能測定(破壊測定)
4.非破壊深さ分解測定
5.表面再結合速度
6.まとめ
第4節 SiCを用いた縦型スーパージャンクションMOSFETの開発 (原田 信介)
1.はじめに
2.SiCスーパージャンクション構造の製法
3.マルチエピSJ-MOSFETの特性
第5節 SiCパワー半導体素子における抵抗要因の影響度の解明 (喜多 浩之,野口 宗隆)
1.SiC MOSFET反転層移動度を解析するモデルと手法
2.SiC MOS反転層移動度モデルの構築
3.おわりに
第2章 GaNパワー半導体
第1節 GaNパワー半導体開発の現状と実用化 (江川 孝志)
1.はじめに
2.GaNパワーデバイスの優位性
3.GaNパワーデバイスの開発動向
第2節 Naフラックス法によるGaN結晶育成技術の進展とその社会実装の展望 (森 勇介,今西 正幸,守山 実希)
1.はじめに
2.Naフラックス法によるGaN結晶成長の変遷
3.多点ポイントシード技術による高品質・大口径GaN結晶の作製
4.HVPE法による厚膜成長 5.FFC法の応用による結晶の成長面制御
6.FFC法を活用したインクルージョンの低減
7.GaN結晶の更なる大口径化
8.まとめ
第3節 酸性アモノサーマル法によるGaN単結晶製造技術 (三川 豊,秩父 重英,栗本 浩平)
1.はじめに
2.アモノサーマル法による結晶成長
3.結晶品質評価
4.結 言
第4節 DLTS法によるGaN中の点欠陥の評価技術 (徳田 豊)
1.はじめに
2.p-GaNのDLTS
3.順電流通電効果
4.おわりに
第5節 高耐圧なGaNパワーデバイス (八木 修一,河合 弘治,成井 啓修)
1.はじめに
2.PSJデバイス
3.PSJデバイスの量産性
4.まとめ
第3章 ダイヤモンドパワー半導体
第1節 ダイヤモンドパワーFET開発の現状と実用化の可能性 (川原田 洋)
1.p型半導体としてのダイヤモンドの優位性
2.インバータ回路の普及は意外と遅れている。その理由はノイズ
3.2DHGをチャネル層に適用したダイヤモンドMOSFET
4.まとめと将来性
第2節 大型単結晶ダイヤモンドの作製技術開発 (山田 英明)
1.背 景
2.低圧法について
3.結晶成長による結晶の大型化
4.結晶の高品質化
5.大型結晶の加工技術
6.まとめ
第3節 ダイヤモンド・ヘテロエピタキシャル結晶成長とダイヤモンドFETへの応用 (嘉数 誠,金 聖祐)
1.はじめに
2.これまでのヘテロエピタキシャルダイヤモンド成長の研究
3.サファイア基板上ヘテロエピタキシャルダイヤモンド成長
4.傾斜したサファイア基板上へのステップフローモードを使ったヘテロエピダイヤ成長
5.ヘテロエピダイヤ基板上のダイヤFET作製
6.まとめ
第4節 ダイヤモンド半導体を用いた耐高温デバイスの作製と高性能化 (植田 研二)
1.はじめに
2.耐高温ダイヤモンドショットキーダイオードの作製
3.耐高温ダイヤモンドパワーデバイスの作製 4.耐高温ダイヤモンドトランジスタの作製
5.まとめ
第5節 ダイヤモンドパワーデバイスの開発のための材料評価技術 (加藤 有香子)
1.ダイヤモンドはどんな材料か
2.デバイス開発のためのダイヤモンドの結晶評価の要素
3.ダイヤモンドの評価手法
第6節 NO2吸着とAl2O3パッシベーションによるダイヤモンドFETの熱的安定性改善と大電流動作
(平間 一行,佐藤 寿志,嘉数 誠)
1.はじめに
2.NO2吸着とAl2O3パッシベーションによる高密度二次元正孔ガスの熱的安定化
3.ダイヤモンドFETの高温環境での安定動作の実現
4.多結晶ダイヤモンド基板上で−1 A/mmを越える大電流FETを実現
5.まとめ
第7節 冷却フリー,耐環境エレクトロニクスに向けたダイヤモンド半導体素子の開発 (梅沢 仁)
1.はじめに
2.パワーエレクトロニクス応用における性能予想
3.高温動作ショットキーダイオードとMESFET
4.ダイヤモンドショットキーダイオードの絶縁破壊と欠陥
5.耐放射線特性
第4章 Ga2O3(酸化ガリウム)パワー半導体
第1節 b型酸化ガリウムパワーデバイス開発 (東脇 正高)
1.はじめに
2.パワーデバイス用途に重要なGa2O3物性
3.Ga2O3トランジスタ
4.Ga2O3ダイオード
5.Ga2O3デバイスの実用化への課題
6.おわりに
第2節 b型酸化ガリウム結晶の高純度成長法 (村上 尚,熊谷 義直)
1.はじめに
2.b型酸化ガリウムのハライド気相成長
3.b型酸化ガリウムのトリハライド気相エピタキシャル成長
4.おわりに
第3節 b型酸化ガリウム基板結晶とエピタキシャル膜の高品質化技術 (佐々木 公平,山腰 茂伸,倉又 朗人)
1.b型酸化ガリウムバルク単結晶基板
2.b型酸化ガリウムのホモエピタキシャル成長技術
3.まとめ
第4節 ミストドライR法によるa型酸化ガリウムパワー半導体の開発 (四戸 孝)
1.はじめ
2.a型酸化ガリウム(a-Ga2O3)の特徴
3.ミストCVD法
4.a-Ga2O3パワー半導体デバイス
5.まとめ
第5節 ミストを用いた半導体製造装置 (西中 浩之)
1.はじめに
2.ミストCVD法の開発
3.ミストCVD法の原理
4.ミストCVD法によるGa2O3の形成技術
5.まとめ |