ガス 分析 セミナー
        
先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
封止・バリア・シーリングに関する 材料,成形製膜,応用の最新技術
 

<セミナー No 412222>

【Live配信のみ】 アーカイブ配信はありません

★ 測定条件の最適化、操作上の注意点、測定結果の解析・評価 まで徹底解説いたします!

ガス中の微量水分・不純物分析

■ 講師

1.

(国研)産業技術総合研究所 物質計測標準研究部門 ガス・湿度標準研究グループ 上級主任研究員 博士(理学) 阿部 恒 氏

2.

(株)イアス 代表取締役 川端 克彦 氏 
■ 開催要領
日 時

2024年124日(水)   12:30〜16:30

会 場 Zoomを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
Live配信セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。
聴講料 1名につき 60,500円(消費税込、資料付)
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき55
,000円

〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕
■ プログラム

【12:30〜14:30】

1.高純度ガス中の微量水分分析

(国研)産業技術総合研究所 物質計測標準研究部門 ガス・湿度標準研究グループ 上級主任研究員 博士(理学) 阿部 恒 氏
 

【習得できる知識】
 微量水分分析の基礎、微量水分分析の注意点、信頼性の高い微量水分分析法

【講座の趣旨】
  高純度ガス中の残留水分の微量分析は他成分の微量分析に比べて困難です。なぜ難しいのか、どのようにすれば信頼性の高い分析結果が得られるのかについて、できるだけ分かりやすく解説します

1.微量水分の基礎
 1.1 微量水分とは
 1.2 微量水分分析の必要性
 1.3 微量水分分析の難しさ
 1.4 微量水分分析の問題点

2.微量水分の分析器
 2.1 鏡面冷却式露点計
 2.2 静電容量式センサー
 2.3 五酸化リン式水分計
 2.4 水晶発振式水分計
 2.5 APIMS
 2.6 TDLAS
 2.7 CRDS
 2.8 検量線の要否

3.微量水分の計測標準
 3.1 計測標準とは
 3.2 測定の不確かさ
 3.3 微量水分標準

4.計測結果の信頼性
 4.1 各種分析器の性能評価例
 4.2 信頼性の高い微量水分分析のために


【質疑応答】


【14:45-16:30】

2.ガス中の金属不純物分析と汚染管理

(株)イアス 代表取締役 川端 克彦 氏 
 

【習得できる知識】
 大気および各種ガス中の金属不純物を分析するための前処理および分析方法

【講座趣旨】
 ガス中の金属不純物の分析では、インピンジャーを用いた溶液に回収する前処理法と、フィルターを用いて粒子状金属を捕捉する前処理法が用いられてきたが、ICP-MSを用いてガスを直接分析することが可能になった。本講座では、ガスの直接分析法について主に紹介する。


1.ガス中の金属不純物の形態

2.前処理方法  
 2.1 溶液捕集法
 2.2 フィルター捕集法
 2.3 Mist-UV法
 2.4 GPD法

3.金属分析手法
 3.1 蛍光X線法 (XRF)
 3.2 原子吸光法 (AAS)
 3.3 誘導結合プラズマ発光分析法 (ICP-OES)
 3.4 誘導結合プラズマ質量分析法 (ICP-MS)

4. ガス交換器(GED)- ICP-MS 法

5.ガス分析例
 5.1 大気中の粒子状およびガス状金属分析
 5.2 半導体製造で用いられる特殊ガス中の金属分析 

6. まとめ

【質疑応答】


ガス 分析 半導体 セミナー