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第4章:高輝度・高精細・長寿命化を支える電極・透明導電膜
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第1節 有機EL用ITO薄膜形成技術
はじめに
1.有機ELの代表的構造
2.有機EL用ITO膜への要求性能と対応
2.1 表面平滑性,低抵抗化,結晶性の制御
2.2 仕事函数
3.ECRプラズマによる平滑性・仕事函数の同時制御
4.今後の展望
第2節 低ダメージスパッタ法による有機EL膜上へのITO膜の成膜技術
はじめに
1.ターゲットから放出される2次電子衝撃によるダメージ
2.ターゲットから放出される酸素負イオンによる基板衝撃
3.反跳ガス原子および高エネルギースパッタ粒子による基板衝撃
4.プラズマ中の荷電粒子による基板衝撃
第3節は著作権の都合上、掲載しておりません
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第1節 有機EL封止剤の特性と使用法
はじめに
1. シール材に求められる特性
2. 紫外線硬化性樹脂とは
3. 有機EL用シール剤
4. 有機EL用シール剤の今後の課題
5. 固体封止について
まとめ
第2節 有機EL用水分ゲッターシート
はじめに
1. ダークスポットの拡大・成長
2. 乾燥材の種類
3. ダイニックのシート状乾燥材「HGS」
4. 水分ゲッターシート「HGS」の吸湿特性
5. 水分ゲッターシート「HGS」の酸素吸着特性
6. 極薄型乾燥材「SA」
おわりに
第3節 捕水剤の開発動向と今後の展開
はじめに
1. 捕水剤の開発動向
1.1 捕水剤の種類と機能
1.2 シート状捕水剤の開発動向
1.3 OleDry?の特徴と機能
1.3.1 OleDry?の水分吸着能力
1.3.2 OleDry?によるダークスポット抑制効果
1.3.3 塗布量と保存寿命の改善効果
1.3.4 OleDry?の電気的,光学的特性に及ぼす影響
1.3.5 OleDry?の応用
2. 今後の展開
2.1 薄膜封止の現状と課題
2.2 捕水剤の役割と今後の展開
第4節 有機ELディスプレイ用ガスバリア性フィルム
はじめに
1. 透明蒸着フィルム概論
2. 透明蒸着フィルムの製造方法
3. OLEDディスプレイ用ガスバリア性フィルムの最新技術
3.1 ホローカソード方式イオンプレーティング法
3.2 プラズマCVD法
おわりに
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第1節は著作権の都合上、掲載しておりません
第2節 インピーダンス法を用いた有機ELデバイスの劣化解析
はじめに
1. インピーダンス(IS)分光
2. 等価回路
3. 移動度評価
4. トラップ分布評価
おわりに
第3節 有機EL素子の劣化原因の特定
はじめに
1. 分光エリプソメトリー
1.1 分光エリプソメトリーとは
1.2 測定法
2. PtOEP有機EL素子での測定例
3. 解析と素子の評価
4. 燐光寿命測定による劣化原因の確認
おわりに
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1節 有機ELの光学シミュレーション解析と光取り出し効率の向上化技術
はじめに
1. 有機ELの光学的効果
2. 光学モード分布と解析手法
3. 素子構造と発取り出し効率
4. 光取り出し効率の向上化技術
4.1 マイクロレンズ方式
4.2 回折格子方式
4.3 フォトニクスアレイ方式
4.4 マイクロキャビティ方式
4.5 高屈折率基板と光散乱層の複合方式
4.6 低屈折率層方式
4.7 メサ型基板方式
4.8 横伝搬型色変換方式
まとめ
第2節 有機ELの光取り出し効率の向上のための表面プラズモンの活用
はじめに
1. 表面プラズモンとは
2. 励起蛍光分子から表面プラズモンへのエネルギー移動
3. プラズモニック結晶による光取り出し効率の向上
4. 高指向性有機EL素子
おわりに
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第8章:有機ELの高輝度・高精細化を実現するためのTFT作製技術
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第1節 a-Si:Hよりも一桁高い移動度をもち低温形成できる
透明アモルファス半導体とそのTFT応用の急速な進展
1. 研究の動機と経緯
2. 透明アモルファス酸化物半導体(TAOS)
3. 透明電界効果型トランジスタ
4. 電子デバイスへの応用
5. a-IGZO−TFTの裾状態の解明
6. これからの課題
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第9章:フレキシブル有機ELディスプレイの開発動向とその特性(偏光EL)
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はじめに
1.偏光EL素子
2.偏光EL素子の作製方法
3.摩擦転写法
4.摩擦転写法による偏光EL素子の作製方法
(1)ポリフルオレン摩擦転写膜
(2)ポリフルオレン摩擦転写膜による偏光EL素子
おわりに
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第10章:小型/大型パネルにおける駆動方式と回路設計
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はじめに
1.電圧プログラム法
2.基本原理
3.閾値電圧設定法
4.電圧書込法
5.移動度補償法
まとめ
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第1節は著作権の都合上、掲載しておりません
第2節 有機EL用クリーンルームの汚染対策と空調システム
はじめに
1.有機ELに対する汚染の影響
2.クリーンルーム内有機物の挙動
3.クリーンドライ空調システム
4.超低露点空気の生成と供給
5.超低露点空気生成時におけるケミカル成分除去
6.局所ドライ化
終わりに
第3節 有機ELの精密塗布について
はじめに
1.フローリアの特長、仕様
1.1 装置の特長
1.2 装置の基本仕様
2.概要
2.1 装置の基本構成
1)ダイ走行・昇降機構
2)スロットダイ
3)ギャップセンサー
4)基板吸着機構
5)ダイ先端洗浄機構
6)塗工液供給ポンプ・タンク
7)自動ゼロセット機構
8)制御システム・制御ソフト
2.2 装置の動作
1)基板セット
2)基板厚み変動測定
3)塗工
4)ダイ先端洗浄
3.スロットダイの塗工方式分類と塗工理論
3.1 コーティング理論と塗工条件の決定
3.2 塗工方式の分類比較
4.FLOLIA 2000 COATER SYSTEM 設備構成(図4参照)
5.OLEDプロセスにおけるFLOLIA適用範囲
おわりに