【本講座で学べること】
・先端半導体パッケージの種類と構造
・微細配線形成技術
・技術コンソーシアムJOINT2でのインターポーザ技術成果
【講座概要】
近年、生成AIなどのハイエンドコンピューティング向け半導体における性能向上は、半導体後工程パッケージング技術の発展によりもたらされている。中でもロジックチップと広帯域メモリチップ間の通信速度が肝であり、インターポーザと呼ばれる再配線層によるチップ間接続が大きな役割を果たしている。本講座ではインターポーザと技術的な変遷を紹介し、特に技術コンソーシアムJOINT2内にて取り組んでいる、角型ガラスパネルを用いたインターポーザ作製の動向を中心に紹介する。
1.会社概要
2.パッケージングソリューションセンターについて
3.企業連携プロジェクト“JOINT2”
3.1 各ワーキンググループにおけるテーマ設定
4.2.xD型パッケージとインターポーザの構成
4.1 近年のトレンド、ロードマップ
5.半導体後工程における配線形成技術
5.1 サブトラクティブ法
5.2 セミアディティブ法
5.3 ダマシン法
6.ガラスパネル上インターポーザ形成と課題
6.1 セミアディティブ法配線形成
6.2 ダマシン法配線形成
6.3 チップ埋め込み型配線形成
6.4 技術課題
6.4.1 面内均一性
6.4.2 ガラスパネル反り制御
【質疑応答】
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