プラズマ プロセス セミナー
        
先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
次世代パワーデバイスに向けた高耐熱・高放熱材料の開発と熱対策
 
<セミナー No.509451>
【 アーカイブ配信】 (2025年8月25日(月) Live配信の録画配信です)

★プロセスプラズマ内における粒子の反応メカニズムを理解し、
  経験則に頼り過ぎないプラズマプロセス開発の考え方と方法論を学ぶ
プラズマプロセスにおける
活性粒子計測モニタリングとプロセスの最適化

■ 講師

名城大学 理工学部 教授 博士(工学) 竹田 圭吾 氏

■ 開催要領
日 時 【アーカイブ(録画)配信】 2025年9月3日まで受付(視聴期間:9月3日〜9月13日まで)
 
※2025年8月25日(月) Live配信の録画配信です)
会 場 ZOOMを利用したLive配信またはアーカイブ配信 ※会場での講義は行いません
セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。
聴講料 1名につき49,500円(消費税込・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき44,000円(税込)〕
〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕
■ プログラム

【本講座で学べること】
・プロセスプラズマの基礎的特性について理解することができる。
・プロセスプラズマ内における活性粒子の生成・消滅(反応)過程について理解することができる。
・活性粒子や荷電粒子の各種計測法の原理を理解し、それらの実践方法について知ることができる。
・活性粒子による反応メカニズムを考慮したプロセス条件の最適化について検討することができる。


【講座概要】
プラズマを用いたプロセス技術は、現代社会を支える半導体デバイスや機械・電気部品の製造現場で広く利用され、近年では医療や農水産などのバイオ応用についても研究されています。気体の放電現象を利用するプラズマは、その内部において物理・化学的な作用をもたらす数多くの中性活性粒子や荷電粒子が生成され、存在しています。それら粒子の相互的な反応により高度なプラズマプロセスが実現されることから、本技術の継続的な発展や新たな革新にはそれら粒子の計測・モニタリングを通じた反応メカニズムの理解とその最適化が必要です。そこで本講座では、まずプラズマ内における活性粒子の生成・消滅に関わる反応過程など基礎的な理解も深めて頂きながら、それら粒子の分析に利用される各種計測法の原理と具体的な実施例について説明させて頂きます。以上を通じて、プラズマプロセス内の活性粒子の計測とモニタリングを通じた反応メカニズムの理解、さらには得られた知識を基にしたプロセス条件の最適化を検討して頂く契機となることを期待します。

1.プラズマの特性と活性粒子の反応
 1.1 プラズマの基礎特性
 1.2 活性粒子の生成過程
 1.3 活性粒子の気相反応
 1.4 活性粒子の表面反応

2.荷電粒子の各種計測技術の原理と特徴
 2.1 プローブ計測法
 2.2 干渉計測法
 2.3 発光・散乱分光法
 2.4 質量分析法

3.中性活性粒子の各種計測技術の原理と特徴
 3.1 発光分光法
 3.2 吸収分光法
 3.3 蛍光分光法
 3.4 質量分析法

4.活性粒子の計測・モニタリングによるプロセスの最適化と制御
 4.1 プラズマエッチングプロセス
 4.2 プラズマ化学気相堆積プロセス
 4.3 大気圧プラズマプロセス
 4.4 プラズマバイオ応用プロセス

5.まとめ


【質疑応答】

プラズマ プロセス モニタリング セミナー