|
【本セミナーで学べること】
・３次元積層チップの構造と利点について
・ICチップの製造時，実装時に発生する欠陥とそのテスト技術について
・ICチップのテスト容易化設計(DFT)の必要性と各種DFT技術について
・3次元積層チップに固有のテスト技術・DFT技術について
【講座概要】
微細化に加えて新たな高集積化技術として複数ICチップを重ねて実装する３次元積層チップが注目されている。３次元積層チップの製造では従来のICチップ単体のテストに加えて，接続に用いるシリコン貫通ビア(TSV)のテストや積層チップ間の接続テストなど複雑なテスト工程が必要となる。また，テストの高信頼化・効率化のためのテスト容易化設計が必須である。本講座では，３次元積層チップのテストに用いられるテスト技術やテスト容易化設計技術について解説する。
１．３次元積層チップの概要
1.1 なぜICチップを積層するか
1.2 3D, 2.5D, チップレット実装
1.3 チップ間の接続：シリコン貫通ビア(TSV), マイクロバンプ, インターポーザ
1.4 チップの積層工程
２．３次元積層チップのテスト技術
2.1 ICチップのテストとは
2.2 欠陥と故障モデル
2.3 ICチップ内部およびICチップ間接続のテスト技術
2.4 チップ積層時のテスト工程
３．３次元積層チップのテスト容易化設計
3.1 テスト容易とは
3.2 代表的なテスト容易化設計(DFT)
3.2.1 スキャン設計
3.2.2 バウンダリスキャン
3.2.3 BIST
3.2.4 テストポイント挿入
3.3 ３次元積層チップ向けのテスト容易化設計
3.4 高信頼化へ向けてのテスト容易化設計
４．まとめ
【質疑応答】
|
