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【講座概要】
産業界で高品質なプラズマＣＶＤ膜の得るための仕事に従事する方々は、プラズマ源の選定から装置パラメータの設定に至る意思決定をする立場にあると思います。この意思決定を適切に行うためには、各種のプラズマ源の特徴を把握しておく必要があります。また、そのプラズマ源を用いたリアクター内で起こる物理・化学的現象が、各種パラメータを変えるとどうなるのか、更にそれが膜質にどのように反映されるのかを把握しておく必要があります。本講座では、プラズマＣＶＤによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムを理解して頂くことを趣旨としました。
【受講後習得できること】
目的に応じたプラズマ源の選定指針を会得して頂くとともに、そのプラズマ源を用いたときに、ガス流量、圧力、投入電力、基板温度などの操作パラメータを増減させるということが、成膜プロセスに対して何をしていることを意味するのかを理解する。
1.なぜプラズマCVD？
1.1 ドライだから
1.2 低温だから
1.3 段差被覆性に優れるから
1.4 機能性官能基を含有できるから
1.5 非平衡だから
2.プラズマと気体放電の基礎
2.1 プラズマの温度
2.2 壁との境界「シース」
2.3 放電によるプラズマ生成の基礎
3.各種プラズマ生成方式（プラズマ源）
3.1 直流放電プラズマ（応用範囲は狭いが，まずはこれで基本原理を理解！）
3.2 高周波放電プラズマ
3.3 高密度プラズマ源は何故高密度か？
4.プラズマ化学工学
4.1 制御パラメータと内部パラメータ
4.2 プラズマ中の電子のエネルギー分布
4.3 電子衝突による一次反応
4.4 二次反応とその影響
4.5 気相から表面までの輸送過程
5.薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
5.1 表面プロセスの概要
5.2 膜構造形成過程の基本的描像
5.3 膜の構造と電子材料としての物性
5.4 膜構造形成過程と膜物性
5.5 成膜速度と基板温度
5.6 イオン衝撃の効能
5.7 機能基の含有
【質疑応答】
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