【本講座で学べること】
・光導波構造の基礎,各種材料を活用した場合の長所/短所の比較
・シリコンフォトニクスデバイスの基本動作原理,研究開発の現状
・モノリシック/ハイブリッドフォトニクス集積技術,ファブレス化の動向
【講座概要】
シリコン系光導波路素子とその集積技術(通称:シリコンフォトニクス)は基礎的な研究段階から,産業展開に至る実用化開発段階へ移行しており,市場は急拡大を続けている.その一方,更なる高密度・高性能な光集積回路を実現に向けて,解決すべき技術課題が多数認識されており,新たなブレークスルーが求められる.本講演では基本的な素子動作原理から近年の技術動向,取り組むべき諸課題について取り上げ,解説を行う.
1.光導波路の基礎
1.1 ガラス,化合物半導体,シリコン系導波路の特徴
2.シリコン系光導波路デバイス
2.1 パッシブ光デバイス(カプラ,フィルタ,入出力光結合など)
2.2 光変調器
2.3 受光器
2.4 レーザー光源
3.フォトニクス集積技術
3.1 ムーアの法則と集積フォトニクスデバイスの活用
3.2 CMOS互換モノリシック集積技術
3.3 多彩な異種材料を活用したハイブリッド集積技術
3.4 光チップレット,2.5/3次元実装
3.5 ファブレス化,ファウンドリーサービスの現状
【質疑応答】
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