□ 三次元積層半導体(3D-IC)の現況と今後の展開について
東北大学 福島誉史
1.はじめに
2.3D-ICの歴史
3.3D-ICの現況
4.3D-ICの今後(まとめ)
□ 3次元積層を実現する回路・装置・パッケージング技術の動き
神奈川県立産業技術短期大学校 小島東作
1.はじめに
2.3次元積層を実現するための回路構成
3.3次元積層を実現するための装置構成
4.3次元積層を実現するための熱解析と3次元電磁解析型シミュレータ
5.3次元積層を実現するためのパッケージング技術
□ 耐湿・防水機能と絶縁性を両立する封止材・封止コーティングについて
Coat-XJapan(株) 江坂啓
1.開発背景
2.Coat-Xの技術
3.今後の展望
□ レーザーダイレクトストラクチャリング(LDS)を応用したエポキシ樹脂成形材料の三次元デバイスの可能性
住友ベークライト(株) 田中祐介
1.はじめに
2.実験
3.実験結果
4.考察
□ 分子接合技術の三次元回路基板への応用
〜分子接合法(i-SB法)による三次元配線形成技術への応用開発〜
岩手大学,(地独)岩手県工業技術センター 鈴木一孝
(地独)岩手県工業技術センター 目黒和幸
(地独)岩手県工業技術センター 黒須恵美
1.はじめに
2.分子接合法(i-SB法)による配線プロセス
3.分子接合法(i-SB法)による平滑配線の形成
4.3次元配線の形成
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